|
|
Банная, В. Ф., Веселова, Л. И., Гершензон, Е. М., Гусинский, Э. Н., & Литвак-Горская, Л. Б. (1990). Оценка точности метода определения раздельной концентрации примесей из измерений постоянной Холла. Физика и техника полупроводников, 24(12), 2145–2150.
Abstract: На примере p-Si⟨B,\,Ga⟩ с различной степенью компенсации проведена сравнительная оценка точности определения раздельной концентрации примесей по температурной зависимости концентрации дырок p(T) в случае одной и двух легирующих примесей с энергиями ионизации, различающимися менее чем в 2 раза. Исследована функция среднеквадратичного отклонения в пространстве параметров D(Nк, N2) (Nк, N1 и N2 — концентрации компенсирующих примесей бора и галлия соответственно, N2≫N1) в предположении, что N2, энергии B и Ga известны. Показано, что в случае двух легирующих примесей D(Nк, N1) в окрестностях минимума имеет «овражный» рельеф и при некоторых соотношениях между Nк и N1 разброс искомых величин превышает порядок, причем увеличение точности измерений p(T) существенного улучшения в вычислении параметров не дает. При одной легирующей примеси точность вычисления параметров высокая.
|
|
|
|
Воеводин, Е. И., Гершензон, Е. М., Гольцман, Г. Н., & Птицина, Н. Г. (1990). Влияние магнитного поля на захват свободных носителей мелкими примесями в Ge. Физика и техника полупроводников, 24(10), 1881–1883.
Abstract: Цель настоящей работы — измерение кинетики примесной фотопроводимости в квантующих магнитных полях.
|
|
|
|
Гальперин, Ю. М., Гершензон, Е. М., Дричко, И. Л., & Литвак-Горская, Л. Б. (1990). Кинетические явления в компенсированном n-InSb при низких температурах. Физика и техника полупроводников, 24(1), 3–24.
Abstract: Представлен обзор результатов цикла исследований природы электропроводности предельно очищенных образцов антимонида индия n-типа. Рассмотрены способы определения концентрации доноров и степени компенсации в этом материале, обсуждается роль свободных и локализованных на донорах электронов в электропроводности при гелиевых температурах. Обсуждение основано на анализе результатов исследования гальваномагнитных явлений, поглощения СВЧ излучения миллиметрового и субмиллиметрового диапазонов и ультразвука. Рассмотрены способы определения характеристик материала на основе комплекса результатов, полученных с помощью указанных методов. Обсуждается также фотопроводимость по примесям в n-InSb.
|
|
|
|
Gershenzon, E. M., Gol'tsman, G. N., Gogidze, I. G., Gusev, Y. P., Elantiev, A. I., Karasik, B. S., et al. (1990). Millimeter and submillimeter wave range mixer based on electronic heating of superconducting films in the resistive state. Sov. Supercond., 3(10), 1582–1597.
|
|
|
|
Gershenzon, E. M., Gershenzon, M. E., Goltsman, G. N., Lulkin, A., Semenov, A. D., & Sergeev, A. V. (1990). Electron-phonon interaction in ultrathin Nb films. Sov. Phys. JETP, 70(3), 505–511.
Abstract: A study was made of the heating of electrons in normal resistive states of superconducting thin Nb films. The directly determined relaxation time of the resistance of a sample and the rise of the electron temperature were used to find the electron-phonon interaction time rep,, The dependence of rep, on the mean free path of electrons re,, a 1-'demonstrated, in agreement with the theoretical predictions, that the contribution of the inelastic scattering of electrons by impurities to the energy relaxation process decreased at low temperatures and the observed temperature dependence rep, a T 2 was due to a modification of the phonon spectrum in thin fllms.
1. Much new information on the electron-phonon interaction time?;,, in thin films of normal metals and superconductors has been published recently. This information has been obtained mainly as a result of two types of measurement. One includes experiments on weak electron localization investigated by the method of quantum interference corrections to the conductivity of disordered conductors, which can be used to find the relaxation time T, of the phase of the electron wave function. In the absence of the scattering of electrons by paramagnetic impurities the relaxation time T, is associated with the most effective process of energy relaxation: T;= TL+ rep;, where T,, is the electronelectron relaxation time. At low temperatures, when the dependence T; a T is exhibited by thin disordered films, the dominant channel is that of the electron-electron relaxation and there is a lower limit to the temperature range in which rep, can be investigated.
|
|
