Home | << 1 >> |
Record | |||||
---|---|---|---|---|---|
Author | Елманов, И. А.; Елманова, А. В.; Голиков, А. Д.; Комракова, С. А.; Каурова, Н. С.; Ковалюк, В. В.; Гольцман, Г. Н. | ||||
Title | Способ определения параметров резистов для электронной литографии фотонных интегральных схем на платформе нитрида кремния | Type | Conference Article | ||
Year | 2019 | Publication | Proc. IWQO | Abbreviated Journal | Proc. IWQO |
Volume | Issue | Pages | 306-308 | ||
Keywords | Si3N4, e-beam lithography, EBL | ||||
Abstract | В работе были измерены толщины резистов ZEP 520A и ma-N 2400 для электронно-лучевой литографии, неразрушающим способом, а также подобран рецепт, обеспечивающий высокое отношение скорости травления нитрида кремния по сравнению с резистом. Работа имеет практическое значение для электронной литографии интегрально-оптических устройств и устройств нанофотоники на основе нитрида кремния. | ||||
Address | |||||
Corporate Author | Thesis | ||||
Publisher | Place of Publication | Editor | |||
Language | Summary Language | Original Title | |||
Series Editor | Series Title | Abbreviated Series Title | |||
Series Volume | Series Issue | Edition | |||
ISSN | ISBN | Medium | |||
Area | Expedition | Conference | |||
Notes | Duplicated as 1189 | Approved | no | ||
Call Number | Serial | 1284 | |||
Permanent link to this record |