|
|
Корнеев АА, Окунев ОВ, Чулкова ГМ, Смирнов КВ, Милостная ИИ, Минаева ОВ, et al. Спонтанные и фотоиндуцированные резистивные состояния в узких сверхпроводящих NbN полосках. МПГУ; 2015.
Abstract: Монография посвящена актуальной проблеме современной фотоники: разработке высокочувствительных и быстродействующих сверхпроводниковых однофотонных детекторов на основе тонкой пленки NbN. В работе исследуются неравновесные процессы, протекающие в тонкой сверхпроводящей пленке после поглощения инфракрасного фотона и приводящие к возникновению резистивного состояния. На этих процессах основан механизм фотоотклика исследуемого в работе однофотонного детектора. В частности, исследуются зависимости квантовой эффективности и скорости темнового счета от геометрических параметров детектора: толщины пленки, ширины полоски, а также от величины транспортного тока детектора. Монография предназначена для студентов старших курсов, аспирантов и начинающих исследователей, работающих в области сверхпроводниковой наноэлектроники и радиофизики.
|
|
|
|
Смирнов КВ. Энергетическая релаксация электронов в 2D-канале гетеропереходов GAAS/ALGAAS и транспортные процессы в структурах полупроводник-сверхпроводник на их основе [Ph.D. thesis].; 2000.
Abstract: Диссертация посвящена изучению электрон-фононного взаимодействия в двумерном электронном газе, образующемся на границе раздела полупроводников AlGaAs и GaAs, а также созданию на основе гетероперехода GaAs/AlGaAs и сверхпроводника NbN гибридных структур сверхпроводник-полупроводник-сверхпроводник и изучению их электрофизических свойств.
|
|
|
|
Gao JR, Hajenius M, Tichelaar FD, Klapwijk TM, Voronov B, Grishin E, et al. Monocrystalline NbN nanofilms on a 3C-SiC∕Si substrate. Appl Phys Lett. 2007;91(6):062504 (1 to 3).
Abstract: The authors have realized NbN (100) nanofilms on a 3C-SiC (100)/Si(100) substrate by dc reactive magnetron sputtering at 800°C. High-resolution transmission electron microscopy (HRTEM) is used to characterize the films, showing a monocrystalline structure and confirming epitaxial growth on the 3C-SiC layer. A film ranging in thickness from 3.4to4.1nm shows a superconducting transition temperature of 11.8K, which is the highest reported for NbN films of comparable thickness. The NbN nano-films on 3C-SiC offer a promising alternative to improve terahertz detectors. For comparison, NbN nanofilms grown directly on Si substrates are also studied by HRTEM.
The authors acknowledge S. V. Svetchnikov at National Centre for HRTEM at Delft, who prepared the specimens for HRTEM inspections. This work was supported by the EU through RadioNet and INTAS.
|
|
|
|
Voronov BM, Gershenzon EM, Gol'tsman GN, Gubkina TO, Semash VD. Superconductive properties of ultrathin NbN films on different substrates. Sverkhprovodimost': Fizika, Khimiya, Tekhnika. 1994;7(6):1097–102.
Abstract: A study was made on dependence of surface resistance, critical temperature and width of superconducting transition on application temperature and thickness of NbN films, which varied within the range of 3-10 nm. Plates of sapphire, fused and monocrystalline quartz, MgO, as well as Si and silicon oxide were used as substrates. NbN films with 160 μθ·cm specific resistance and 16.5 K (Tc) critical temperature were obtained on sapphire substrates. Intensive growth of ΔTc was noted for films, applied on fused quartz, with increase of precipitation temperature. This is explained by occurrence of high tensile stresses in NbN films, caused by sufficient difference of thermal coefficients of expansion of NbN and quartz.
|
|
|
|
Budyanskij MY, Sejdman LA, Voronov BM, Gubkina TO. Increase of reproducibility in production of superconducting thin films of niobium nitride. Sverkhprovodimost': Fizika, Khimiya, Tekhnika. 1992;5(10):1950–4.
Abstract: Technique to control the composition of gas medium in the reactive magnetron discharge and the composition of the deposited films of niobium nitride using electrical parameters of discharge only, in particular, by δU = Up – Uar value at contant stabilized discharge current is described. Technique to select optimal condition for deposition of niobium nitride films when the films have composition meeting chemical formula, is suggested. Thin films of niobium nitride with up to 7 nm thickness and with rather high temperature of transition into superconducting state Tk > 10 K) and with low width of transition (δ < 0.6 K), are obtained. It is determined, that substrate material and dielectric sublayer do not affect. Tk value, while difference in coefficients of thermal expansion of substrate and of film affects δTk value.
|
|
