|
Baeva EM, Titova NA, Veyrat L, Sacépé B, Semenov AV, Goltsman GN, et al. Thermal relaxation in metal films limited by diffuson lattice excitations of amorphous substrates. Phys Rev Applied. 2021;15(5):054014.
Abstract: We examine the role of a silicon-based amorphous insulating substrate in the thermal relaxation in thin NbN, InOx, and Au/Ni films at temperatures above 5 K. The samples studied consist of metal bridges on an amorphous insulating layer lying on or suspended above a crystalline substrate. Noise thermometry is used to measure the electron temperature Te of the films as a function of Joule power per unit area P2D. In all samples, we observe a P2D∝Tne dependence, with exponent n≃2, which is inconsistent with both electron-phonon coupling and Kapitza thermal resistance. In suspended samples, the functional dependence of P2D(Te) on the length of the amorphous insulating layer is consistent with the linear temperature dependence of the thermal conductivity, which is related to lattice excitations (diffusons) for a phonon mean free path shorter than the dominant phonon wavelength. Our findings are important for understanding the operation of devices embedded in amorphous dielectrics.
|
|
|
Manova NN, Simonov NO, Korneeva YP, Korneev AA. Developing of NbN films for superconducting microstrip single-photon detector. In: J. Phys.: Conf. Ser. Vol 1695.; 2020. 012116 (1 to 5).
Abstract: We optimized NbN films on a Si substrate with a buffer SiO2 layer to produce superconducting microstrip single-photon detectors with saturated dependence of quantum efficiency (QE) versus normalized bias current. We varied thickness of films and observed the maximum QE saturation for device based on the thinner film with the lowest ratio RS300/RS20.
|
|
|
Корнеев АА, Окунев ОВ, Чулкова ГМ, Смирнов КВ, Милостная ИИ, Минаева ОВ, et al. Спонтанные и фотоиндуцированные резистивные состояния в узких сверхпроводящих NbN полосках. МПГУ; 2015.
Abstract: Монография посвящена актуальной проблеме современной фотоники: разработке высокочувствительных и быстродействующих сверхпроводниковых однофотонных детекторов на основе тонкой пленки NbN. В работе исследуются неравновесные процессы, протекающие в тонкой сверхпроводящей пленке после поглощения инфракрасного фотона и приводящие к возникновению резистивного состояния. На этих процессах основан механизм фотоотклика исследуемого в работе однофотонного детектора. В частности, исследуются зависимости квантовой эффективности и скорости темнового счета от геометрических параметров детектора: толщины пленки, ширины полоски, а также от величины транспортного тока детектора. Монография предназначена для студентов старших курсов, аспирантов и начинающих исследователей, работающих в области сверхпроводниковой наноэлектроники и радиофизики.
|
|
|
Смирнов КВ. Энергетическая релаксация электронов в 2D-канале гетеропереходов GAAS/ALGAAS и транспортные процессы в структурах полупроводник-сверхпроводник на их основе [Ph.D. thesis].; 2000.
Abstract: Диссертация посвящена изучению электрон-фононного взаимодействия в двумерном электронном газе, образующемся на границе раздела полупроводников AlGaAs и GaAs, а также созданию на основе гетероперехода GaAs/AlGaAs и сверхпроводника NbN гибридных структур сверхпроводник-полупроводник-сверхпроводник и изучению их электрофизических свойств.
|
|
|
Voronov BM, Gershenzon EM, Gol'tsman GN, Gubkina TO, Semash VD. Superconductive properties of ultrathin NbN films on different substrates. Sverkhprovodimost': Fizika, Khimiya, Tekhnika. 1994;7(6):1097–102.
Abstract: A study was made on dependence of surface resistance, critical temperature and width of superconducting transition on application temperature and thickness of NbN films, which varied within the range of 3-10 nm. Plates of sapphire, fused and monocrystalline quartz, MgO, as well as Si and silicon oxide were used as substrates. NbN films with 160 μθ·cm specific resistance and 16.5 K (Tc) critical temperature were obtained on sapphire substrates. Intensive growth of ΔTc was noted for films, applied on fused quartz, with increase of precipitation temperature. This is explained by occurrence of high tensile stresses in NbN films, caused by sufficient difference of thermal coefficients of expansion of NbN and quartz.
|
|