|   | 
Details
   web
Record
Author Елманов, И. А.; Елманова, А. В.; Голиков, А. Д.; Комракова, С. А.; Каурова, Н. С.; Ковалюк, В. В.; Гольцман, Г. Н.
Title Способ определения параметров резистов для электронной литографии фотонных интегральных схем на платформе нитрида кремния Type Conference Article
Year 2019 Publication Proc. IWQO Abbreviated Journal Proc. IWQO
Volume Issue Pages 306-308
Keywords Si3N4, e-beam lithography, EBL
Abstract В работе были измерены толщины резистов ZEP 520A и ma-N 2400 для электронно-лучевой литографии, неразрушающим способом, а также подобран рецепт, обеспечивающий высокое отношение скорости травления нитрида кремния по сравнению с резистом. Работа имеет практическое значение для электронной литографии интегрально-оптических устройств и устройств нанофотоники на основе нитрида кремния.
Address
Corporate Author Thesis
Publisher Place of Publication Editor
Language Summary Language Original Title
Series Editor (up) Series Title Abbreviated Series Title
Series Volume Series Issue Edition
ISSN ISBN Medium
Area Expedition Conference
Notes Duplicated as 1189 Approved no
Call Number Serial 1284
Permanent link to this record