Гольцман ГН, Смирнов КВ. По итогам проектов российского фонда фундаментальных исследований. Проект РФФИ # 98-02-16897 Электрон-фононное взаимодействие в двумерном электронном газе полупроводниковых гетероструктур при низких температурах. Письма в ЖЭТФ. 2001;74(9):532–8.
Abstract: Рассмотрены теоретические и экспериментальные работы, посвященные изучению электрон-фононного взаимодействия в двумерном электронном газе полупроводниковых гетероструктур при низких температурах в случае сильного разогрева в электрическом поле, в квазиравновесных условиях и в квантующем магнитном поле, перпендикулярном 2D слою.
|
|
Елезов МС, Корнеев АА, Дивочий АВ, Гольцман ГН. Сверхпроводящие однофотонные детекторы с разрешением числа фотонов. In: Науч. сессия МИФИ.; 2009. p. 47–58.
|
|
Елезов МС, Тархов МА, Дивочий АВ, Вахтомин ЮБ, Гольцман ГН. Система регистрации одиночных фотонов в видимом и ближнем инфракрасном диапазонах. In: Науч. сессия НИЯУ МИФИ.; 2010. p. 94–5.
|
Елезов МС, Щербатенко МЛ, Сыч ДВ, Гольцман ГН. Практические особенности работы оптоволоконного квантового приемника Кеннеди. In: Proc. IWQO.; 2019. p. 303–5.
Abstract: Мы рассматриваем практические особенности работы квантового приемника на основе схемы Кеннеди, собранного из стандартных оптоволоконных элементов и сверхпроводникового детектора одиночных фотонов. Приемник разработан для различения двух фазовомодулированных когерентных состояний света на длине волны 1,5 микрона в непрерывном режиме с частотой модуляции 200 КГц и уровнем ошибок различения примерно в два раза ниже стандартного квантового предела.
|
Елманов ИА, Елманова АВ, Голиков АД, Комракова СА, Каурова НС, Ковалюк ВВ, et al. Способ определения параметров резистов для электронной литографии фотонных интегральных схем на платформе нитрида кремния. In: Proc. IWQO.; 2019. p. 306–8.
Abstract: В работе были измерены толщины резистов ZEP 520A и ma-N 2400 для электронно-лучевой литографии, неразрушающим способом, а также подобран рецепт, обеспечивающий высокое отношение скорости травления нитрида кремния по сравнению с резистом. Работа имеет практическое значение для электронной литографии интегрально-оптических устройств и устройств нанофотоники на основе нитрида кремния.
|
