toggle visibility Search & Display Options

Select All    Deselect All
 |   | 
Details
   print
  Record Links
Author (up) Елманов, И. А.; Елманова, А. В.; Голиков, А. Д.; Комракова, С. А.; Каурова, Н. С.; Ковалюк, В. В.; Гольцман, Г. Н. url  openurl
  Title Способ определения параметров резистов для электронной литографии фотонных интегральных схем на платформе нитрида кремния Type Conference Article
  Year 2019 Publication Proc. IWQO Abbreviated Journal Proc. IWQO  
  Volume Issue Pages 306-308  
  Keywords Si3N4, e-beam lithography, EBL  
  Abstract В работе были измерены толщины резистов ZEP 520A и ma-N 2400 для электронно-лучевой литографии, неразрушающим способом, а также подобран рецепт, обеспечивающий высокое отношение скорости травления нитрида кремния по сравнению с резистом. Работа имеет практическое значение для электронной литографии интегрально-оптических устройств и устройств нанофотоники на основе нитрида кремния.  
  Address  
  Corporate Author Thesis  
  Publisher Place of Publication Editor  
  Language Summary Language Original Title  
  Series Editor Series Title Abbreviated Series Title  
  Series Volume Series Issue Edition  
  ISSN ISBN Medium  
  Area Expedition Conference  
  Notes Duplicated as 1189 Approved no  
  Call Number Serial 1284  
Permanent link to this record
Select All    Deselect All
 |   | 
Details
   print

Save Citations:
Export Records: