Проходцов АИ, Голиков АД, Ан ПП, Ковалюк ВВ, Гольцман ГН. Влияние покрытия из оксида кремния на эффективность фокусирующего решеточного элемента связи из нитрида кремния. In: Proc. IWQO.; 2019. p. 201–3.
Abstract: В работе экспериментально изучена зависимость эффективности фокусирующего решеточного элемента связи от периода и фактора заполнения до и после напыления верхнего слоя из оксида кремния. Полученные данные имеют практическое значение при создании перестраиваемых интегрально-оптических устройств на нитриде кремния.
|
Мошкова МА, Дивочий АВ, Морозов ПВ, Антипов АВ, Вахтомин ЮБ, Смирнов КВ. Оценка статистики распределения фотонов с использованием многоэлементного сверхпроводникового однофотонного детектора. In: Межвузовская научно-техническая конференция студентов, аспирантов и молодых специалистов им. Е. В. Арменского. МИЭМ НИУ ВШЭ; 2019. p. 201–2.
Abstract: Проведен сравнительный анализ топологий сверхпроводниковых однофотонных детекторов с способностью к разрешению до четырёх фотонов в коротком импульсе ИК излучения. Получен детектор, с системной квантовой эффективностью ~85% на λ=1550 нм. Продемонстрирована возможность его использования для распределения числа фотонов импульсного источника излучения.
|
Золотов ФИ, Смирнов КВ. Особенности осаждения разупорядоченных сверхтонких плёнок нитрида ванадия. In: Межвузовская научно-техническая конференция студентов, аспирантов и молодых специалистов им. Е. В. Арменского. МИЭМ НИУ ВШЭ; 2019. p. 204–5.
Abstract: В работе изучены особенности роста сверхтонких плёнок нитрида ванадия толщиной ~10 нм. Обнаружено, что при изменении температуры подложки и общего давления газов в процессе осаждения плёнок меняется значение их поверхностного сопротивления вблизи перехода к сверхпроводящему состоянию.
|
Елманова А, Елманов И, Комракова С, Голиков А, Джавадзадэ Д, Воробьёв В, et al. Способ интеграции наноалмазов с нанофотонными устройствами из нитрида кремния. In: Proc. IWQO.; 2019. p. 309–11.
Abstract: В работе были разработаны оптические структуры из нитрида кремния для дальнейшего размещения на них наноалмазов с NV-центрами, опробованы различные методики нанесения раствора наноалмазов и выбрана оптимальная. Работа имеет практическое значение в области нанофотоники и создании квантово-оптических устройств с однофотонными источниками.
|
Елманов ИА, Елманова АВ, Голиков АД, Комракова СА, Каурова НС, Ковалюк ВВ, et al. Способ определения параметров резистов для электронной литографии фотонных интегральных схем на платформе нитрида кремния. In: Proc. IWQO.; 2019. p. 306–8.
Abstract: В работе были измерены толщины резистов ZEP 520A и ma-N 2400 для электронно-лучевой литографии, неразрушающим способом, а также подобран рецепт, обеспечивающий высокое отношение скорости травления нитрида кремния по сравнению с резистом. Работа имеет практическое значение для электронной литографии интегрально-оптических устройств и устройств нанофотоники на основе нитрида кремния.
|
