Банная ВФ, Веселова ЛИ, Гершензон ЕМ. Об одном способе определения концентрации глубоких примесей в германии. Физика и техника полупроводников. 1983;17(10):1896–8.
|
Гершензон ЕМ, Литвак-Горская ЛБ, Рабинович РИ. Отрицательное магнитосопротивление в случае проводимости по верхней зоне Хаббарда. Физика и техника полупроводников. 1983;17(10):1873–6.
|
Гальперин ЮМ, Гершензон ЕМ, Дричко ИЛ, Литвак-Горская ЛБ. Кинетические явления в компенсированном n-InSb при низких температурах. Физика и техника полупроводников. 1990;24(1):3–24.
Abstract: Представлен обзор результатов цикла исследований природы электропроводности предельно очищенных образцов антимонида индия n-типа. Рассмотрены способы определения концентрации доноров и степени компенсации в этом материале, обсуждается роль свободных и локализованных на донорах электронов в электропроводности при гелиевых температурах. Обсуждение основано на анализе результатов исследования гальваномагнитных явлений, поглощения СВЧ излучения миллиметрового и субмиллиметрового диапазонов и ультразвука. Рассмотрены способы определения характеристик материала на основе комплекса результатов, полученных с помощью указанных методов. Обсуждается также фотопроводимость по примесям в n-InSb.
|
Гершензон ЕМ, Литвак-Горская ЛБ, Луговая ГЯ, Шапиро ЕЗ. Об интерпретации отрицательного магнитосопротивления в случае проводимости по верхней зоне Хаббарда в n-Ge⟨Sb⟩. Физика и техника полупроводников. 1986;20(1):99–103.
Abstract: В рамках теории квантовых поправок к проводимости объяснено отрицательное магнитосопротивление в n-Ge с концентрацией доноров Nd≃2.8⋅1016÷1.1⋅1017см−3, наблюдаемое в диапазоне температур 4.2−10 K, когда основной вклад в проводимость дают электроны верхней зоны Хаббарда. Показано, что время релаксации фазы волновой функции τφ определяется временем электрон-фононного взаимодействия τeph.
|
Gershenzon EM, Gurvich YA, Orlova SL, Ptitsina NG. Scattering of electrons by charged impurities in Ge under cyclotron resonance conditions. Presumably: Sov Phys Semicond | Физика и техника полупроводников. 1976;10:1379–83.
|