|
Елезов МС, Корнеев АА, Дивочий АВ, Гольцман ГН. Сверхпроводящие однофотонные детекторы с разрешением числа фотонов. In: Науч. сессия МИФИ.; 2009. p. 47–58.
|
|
|
Елезов МС, Тархов МА, Дивочий АВ, Вахтомин ЮБ, Гольцман ГН. Система регистрации одиночных фотонов в видимом и ближнем инфракрасном диапазонах. In: Науч. сессия НИЯУ МИФИ.; 2010. p. 94–5.
|
|
|
Симонов НО, Флоря ИН, Корнеева ЮП, Корнеев АА, Гольцман ГН. Однофотонный отклик в тонких сверхпроводящих MoNx пленках. In: Сборн. науч. труд. VII международн. конф. по фотонике и информац. опт.; 2018. p. 408–9.
Abstract: Продемонстрирован однофотонный отклик, при токе близком к критическому, в MoNx сверхпроводящих полосках шириной 70-104 нм. MoNx детекторы, имеющие коэффициент диффузии D≈0.32 см2/с и время электрон-фононного взаимодействия ηe-ph≈300 пс, достигают квантовой эффективности QE≈20% на длине волны λ=1550 нм. Возможность реализации однофотонного детектора в данном материале, подтверждает существующую теорию вихревого механизма возникновения фотоотклика в узких сверхпроводящих полосках.
|
|
|
Елманов ИА, Елманова АВ, Голиков АД, Комракова СА, Каурова НС, Ковалюк ВВ, et al. Способ определения параметров резистов для электронной литографии фотонных интегральных схем на платформе нитрида кремния. In: Proc. IWQO.; 2019. p. 306–8.
Abstract: В работе были измерены толщины резистов ZEP 520A и ma-N 2400 для электронно-лучевой литографии, неразрушающим способом, а также подобран рецепт, обеспечивающий высокое отношение скорости травления нитрида кремния по сравнению с резистом. Работа имеет практическое значение для электронной литографии интегрально-оптических устройств и устройств нанофотоники на основе нитрида кремния.
|
|
|
Елманова А, Елманов И, Комракова С, Голиков А, Джавадзадэ Д, Воробьёв В, et al. Способ интеграции наноалмазов с нанофотонными устройствами из нитрида кремния. In: Proc. IWQO.; 2019. p. 309–11.
Abstract: В работе были разработаны оптические структуры из нитрида кремния для дальнейшего размещения на них наноалмазов с NV-центрами, опробованы различные методики нанесения раствора наноалмазов и выбрана оптимальная. Работа имеет практическое значение в области нанофотоники и создании квантово-оптических устройств с однофотонными источниками.
|
|