|
|
Елезов МС, Корнеев АА, Дивочий АВ, Гольцман ГН. Сверхпроводящие однофотонные детекторы с разрешением числа фотонов. In: Науч. сессия МИФИ.; 2009. p. 47–58.
|
|
|
|
Проходцов АИ, Голиков АД, Ан ПП, Ковалюк ВВ, Гольцман ГН. Влияние покрытия из оксида кремния на эффективность фокусирующего решеточного элемента связи из нитрида кремния. In: Proc. IWQO.; 2019. p. 201–3.
Abstract: В работе экспериментально изучена зависимость эффективности фокусирующего решеточного элемента связи от периода и фактора заполнения до и после напыления верхнего слоя из оксида кремния. Полученные данные имеют практическое значение при создании перестраиваемых интегрально-оптических устройств на нитриде кремния.
|
|
|
|
Елезов МС, Щербатенко МЛ, Сыч ДВ, Гольцман ГН. Практические особенности работы оптоволоконного квантового приемника Кеннеди. In: Proc. IWQO.; 2019. p. 303–5.
Abstract: Мы рассматриваем практические особенности работы квантового приемника на основе схемы Кеннеди, собранного из стандартных оптоволоконных элементов и сверхпроводникового детектора одиночных фотонов. Приемник разработан для различения двух фазовомодулированных когерентных состояний света на длине волны 1,5 микрона в непрерывном режиме с частотой модуляции 200 КГц и уровнем ошибок различения примерно в два раза ниже стандартного квантового предела.
|
|
|
|
Елманов ИА, Елманова АВ, Голиков АД, Комракова СА, Каурова НС, Ковалюк ВВ, et al. Способ определения параметров резистов для электронной литографии фотонных интегральных схем на платформе нитрида кремния. In: Proc. IWQO.; 2019. p. 306–8.
Abstract: В работе были измерены толщины резистов ZEP 520A и ma-N 2400 для электронно-лучевой литографии, неразрушающим способом, а также подобран рецепт, обеспечивающий высокое отношение скорости травления нитрида кремния по сравнению с резистом. Работа имеет практическое значение для электронной литографии интегрально-оптических устройств и устройств нанофотоники на основе нитрида кремния.
|
|
|
|
Гершензон ЕМ, Гершензон МЕ, Гольцман ГН, Семенов АД, Сергеев АВ. Неселективное воздействие электромагнитного излучения на сверхпроводящую пленку в резистивном состоянии. Письма в ЖЭТФ. 1982;36(7):241–4.
|
|
