| Records |
| Author |
Елманов, И. А.; Елманова, А. В.; Голиков, А. Д.; Комракова, С. А.; Каурова, Н. С.; Ковалюк, В. В.; Гольцман, Г. Н. |
| Title |
Способ определения параметров резистов для электронной литографии фотонных интегральных схем на платформе нитрида кремния |
Type |
Conference Article |
| Year |
2019 |
Publication |
Proc. IWQO |
Abbreviated Journal  |
Proc. IWQO |
| Volume |
|
Issue |
|
Pages |
306-308 |
| Keywords |
Si3N4, e-beam lithography, EBL |
| Abstract |
В работе были измерены толщины резистов ZEP 520A и ma-N 2400 для электронно-лучевой литографии, неразрушающим способом, а также подобран рецепт, обеспечивающий высокое отношение скорости травления нитрида кремния по сравнению с резистом. Работа имеет практическое значение для электронной литографии интегрально-оптических устройств и устройств нанофотоники на основе нитрида кремния. |
| Address |
|
| Corporate Author |
|
Thesis |
|
| Publisher |
|
Place of Publication |
|
Editor |
|
| Language |
|
Summary Language |
|
Original Title |
|
| Series Editor |
|
Series Title |
|
Abbreviated Series Title |
|
| Series Volume |
|
Series Issue |
|
Edition |
|
| ISSN |
|
ISBN |
|
Medium |
|
| Area |
|
Expedition |
|
Conference |
|
| Notes |
Duplicated as 1189 |
Approved |
no |
| Call Number |
|
Serial |
1284 |
| Permanent link to this record |
| |
|
| |
| Author |
Шангина, Е. Л.; Смирнов, К. В.; Морозов, Д. В.; Ковалюк, В. В.; Гольцман, Г. Н.; Веревкин, А. А.; Торопов, А. И. |
| Title |
Концентрационная зависимость полосы преобразования смесителей субмиллиметрового диапазона на основе наноструктур AlGaAs/GaAs |
Type |
Journal Article |
| Year |
2010 |
Publication |
Изв. РАН Сер. Физ. |
Abbreviated Journal |
Изв. РАН Сер. Физ. |
| Volume |
74 |
Issue |
1 |
Pages |
110-112 |
| Keywords |
2DEG AlGaAs/GaAs heterostructures, THz heterodyne detectors, IF bandwidth |
| Abstract |
Методом субмиллиметровой спектроскопии с высоким временным разрешением при Т = 4.2 К измерена концентрационная зависимость полосы преобразования гетеродинного детектирования гетероструктур AlGaAs/GaAs с двумерным электронным газом. С увеличением концентрации двумерных электронов ns = (1.6–6.6) · 1011см-2 ширина полосы преобразования f3dB уменьшается от 245 до 145 МГц. В исследованной области концентраций наблюдается зависимость f3dB , обусловленная рассеянием электронов на деформационном потенциале акустических фононов и пьезоэлектрическим рассеянием. |
| Address |
|
| Corporate Author |
|
Thesis |
|
| Publisher |
|
Place of Publication |
|
Editor |
|
| Language |
Russian |
Summary Language |
|
Original Title |
|
| Series Editor |
|
Series Title |
|
Abbreviated Series Title |
|
| Series Volume |
|
Series Issue |
|
Edition |
|
| ISSN |
|
ISBN |
|
Medium |
|
| Area |
|
Expedition |
|
Conference |
|
| Notes |
Duplicated as 1217 |
Approved |
no |
| Call Number |
RPLAB @ gujma @ |
Serial |
642 |
| Permanent link to this record |
