toggle visibility Search & Display Options

Select All    Deselect All
 |   | 
Details
   print
  Records Links
Author Семенов, А. В.; Корнеев, А. А.; Лобанов, Ю. В.; Корнеева, Ю. П.; Рябчун, С. А.; Лаврова, О. С.; Третьяков, И. В.; Флоря, И. Н.; Силаев, М. А.; Кинев, Н. В.; Ковалюк, В. В.; Смирнов, К. В.; Гольцман, Г. Н. url  openurl
  Title (up) Поляризация электромагнитной волны вблизи фокуса зеркала и системы зеркал в субтерагерцовом диапазоне частот Type Journal Article
  Year 2012 Publication Современные проблемы науки и образования Abbreviated Journal  
  Volume Issue 2 Pages  
  Keywords sub-terahertz radio telescope  
  Abstract Рассмотрено влияние оптической системы телескопа на поляризацию принимаемого электромагнитного сигнала. Описано изменение поляризации луча при отражении от произвольно ориентированной поверхности зеркала. Учтены искажения поляризации, обусловленные как отклонением лучей от первоначального направления, так и различием в коэффициентах отражения для разных поляризаций в случае неидеального отражения. В рамках метода Френеля получены оценочные формулы, дающие отношение амплитуд поля с исходной поляризацией и с поляризацией, перпендикулярной исходной, вблизи фокальной точки оптической системы. Формулы выведены для нескольких практически важных случаев, в том числе для параболического зеркала и системы двух зеркал. Оценена верхняя граница поляризационных искажений в пределах кружка Эйри. Полученные оценки согласуются с результатами численного расчёта для двухзеркального радиотелескопа субтерагерцового диапазона.  
  Address  
  Corporate Author Thesis  
  Publisher Place of Publication Editor  
  Language Russian Summary Language Original Title  
  Series Editor Series Title Abbreviated Series Title  
  Series Volume Series Issue Edition  
  ISSN ISBN Medium  
  Area Expedition Conference  
  Notes 9 страниц; УДК 535-47 Approved no  
  Call Number Serial 1819  
Permanent link to this record
 

 
Author Елманов, И. А.; Елманова, А. В.; Голиков, А. Д.; Комракова, С. А.; Каурова, Н. С.; Ковалюк, В. В.; Гольцман, Г. Н. url  openurl
  Title (up) Способ определения параметров резистов для электронной литографии фотонных интегральных схем на платформе нитрида кремния Type Conference Article
  Year 2019 Publication Proc. IWQO Abbreviated Journal Proc. IWQO  
  Volume Issue Pages 306-308  
  Keywords Si3N4, e-beam lithography, EBL  
  Abstract В работе были измерены толщины резистов ZEP 520A и ma-N 2400 для электронно-лучевой литографии, неразрушающим способом, а также подобран рецепт, обеспечивающий высокое отношение скорости травления нитрида кремния по сравнению с резистом. Работа имеет практическое значение для электронной литографии интегрально-оптических устройств и устройств нанофотоники на основе нитрида кремния.  
  Address  
  Corporate Author Thesis  
  Publisher Place of Publication Editor  
  Language Summary Language Original Title  
  Series Editor Series Title Abbreviated Series Title  
  Series Volume Series Issue Edition  
  ISSN ISBN Medium  
  Area Expedition Conference  
  Notes Duplicated as 1189 Approved no  
  Call Number Serial 1284  
Permanent link to this record
Select All    Deselect All
 |   | 
Details
   print

Save Citations:
Export Records: