Гершензон, Е. М., Литвак-Горская, Л. Б., Луговая, Г. Я., & Шапиро, Е. З. (1986). Об интерпретации отрицательного магнитосопротивления в случае проводимости по верхней зоне Хаббарда в n-Ge⟨Sb⟩. Физика и техника полупроводников, 20(1), 99–103.
Abstract: В рамках теории квантовых поправок к проводимости объяснено отрицательное магнитосопротивление в n-Ge с концентрацией доноров Nd≃2.8⋅1016÷1.1⋅1017см−3, наблюдаемое в диапазоне температур 4.2−10 K, когда основной вклад в проводимость дают электроны верхней зоны Хаббарда. Показано, что время релаксации фазы волновой функции τφ определяется временем электрон-фононного взаимодействия τeph.
|
|
Гершензон, Е. М., Семенов, И. Т., & Фогельсон, М. С. (1985). Спин-решеточная релаксация доноров фосфора в кремнии при одноосной деформации образца. Физика и техника полупроводников, 19(9), 1696–1698.
|
Гершензон, Е. М., Семенов, И. Т., & Фогельсон, М. С. (1984). О механизме динамического сужения линии ЭПР доноров фосфора в кремнии. Физика и техника полупроводников, 18(3), 421–425.
Abstract: Температурная зависимость ширины линии ЭПР доноров Р в Si исследована в интервале концентрации ND=2.5⋅1017−9⋅1017см−3 и температур T=1.7−45 K на образцах с различной степенью компенсации основной примеси. Результаты согласуются с моделью обменного сужения линии при учете температурной зависимости обменного интеграла и тем самым исключают предлагавшийся ранее механизм сужения линии вследствие прыжкового движения электронов по примесным центрам.
|
|
Банная, В. Ф., Веселова, Л. И., & Гершензон, Е. М. (1983). Об одном способе определения концентрации глубоких примесей в германии. Физика и техника полупроводников, 17(10), 1896–1898.
|
|
Гершензон, Е. М., Литвак-Горская, Л. Б., & Рабинович, Р. И. (1983). Отрицательное магнитосопротивление в случае проводимости по верхней зоне Хаббарда. Физика и техника полупроводников, 17(10), 1873–1876.
|
|
Гершензон, Е. М., Мельников, А. П., Рабинович, Р. И., & Смирнова, В. Б. (1983). О возможности создания инверсной функции распределения свободных носителей в полупроводниках при захвате на мелкие нейтральные примеси. Физика и техника полупроводников, 17(3), 499–501.
|
Sergeev, A., Karasik, B. S., Ptitsina, N. G., Chulkova, G. M., Il'in, K. S., & Gershenzon, E. M. (1999). Electron–phonon interaction in disordered conductors. Phys. Rev. B Condens. Matter, 263-264, 190–192.
Abstract: The electron–phonon interaction is strongly modified in conductors with a small value of the electron mean free path (impure metals, thin films). As a result, the temperature dependencies of both the inelastic electron scattering rate and resistivity differ significantly from those for pure bulk materials. Recent complex measurements have shown that modified dependencies are well described at K by the electron interaction with transverse phonons. At helium temperatures, available data are conflicting, and cannot be described by an universal model.
|
Ptitsina, N. G., Chulkova, G. M., Il’in, K. S., Sergeev, A. V., Pochinkov, F. S., Gershenzon, E. M., et al. (1997). Electron-phonon interaction in disordered metal films: The resistivity and electron dephasing rate. Phys. Rev. B, 56(16), 10089–10096.
Abstract: The temperature dependence of the resistance of films of Al, Be, and NbC with small values of the electron mean free path l=1.5–10nm has been measured at 4.2–300 K. The resistance of all the films contains a T2 contribution that is proportional to the residual resistance; this contribution has been attributed to the interference between the elastic electron scattering and the electron-phonon scattering. Fitting the data to the theory of the electron-phonon-impurity interference (M. Yu. Reiser and A. V. Sergeev, Zh. Eksp. Teor. Fiz. 92, 224 (1987) [Sov. Phys. JETP 65, 1291 (1987)]), we obtain constants of interaction of the electrons with transverse phonons, and estimate the contribution of this interaction to the electron dephasing rate in thin films of Au, Al, Be, Nb, and NbC. Our estimates are in a good agreement with the experimental data on the inelastic electron-phonon scattering in these films. This indicates that the interaction of electrons with transverse phonons controls the electron-phonon relaxation rate in thin-metal films over a broad temperature range.
|
Gershenzon, E. M., Gurvich, Y. A., Orlova, S. L., & Ptitsina, N. G. (1975). Cyclotron resonance of electrons in Ge in a quantizing magnetic field in the case of inelastic scattering by acoustic phonons. Sov. Phys. JETP, 40(2), 311–315.
Abstract: Results are presented of an experimental study of the linewidth of cyclotron resonance under strong quantization conditions on the scattering of electrons by acoustic phonons. The measurements were performed in the 2....{).4 mm wavelength range at temperatures between 10 and 1.4 OK. A number of singularities were observed in the temperature and frequency dependences of the cyclotron linewidth. These can be ascribed to the effect of inhomogeneous broadening due to nonparabolicity of the electron spectrum, which is renormalized as a result of interaction with acoustic phonons.
|
Baeva, E. M., Titova, N. A., Veyrat, L., Sacépé, B., Semenov, A. V., Goltsman, G. N., et al. (2021). Thermal relaxation in metal films limited by diffuson lattice excitations of amorphous substrates. Phys. Rev. Applied, 15(5), 054014.
Abstract: We examine the role of a silicon-based amorphous insulating substrate in the thermal relaxation in thin NbN, InOx, and Au/Ni films at temperatures above 5 K. The samples studied consist of metal bridges on an amorphous insulating layer lying on or suspended above a crystalline substrate. Noise thermometry is used to measure the electron temperature Te of the films as a function of Joule power per unit area P2D. In all samples, we observe a P2D∝Tne dependence, with exponent n≃2, which is inconsistent with both electron-phonon coupling and Kapitza thermal resistance. In suspended samples, the functional dependence of P2D(Te) on the length of the amorphous insulating layer is consistent with the linear temperature dependence of the thermal conductivity, which is related to lattice excitations (diffusons) for a phonon mean free path shorter than the dominant phonon wavelength. Our findings are important for understanding the operation of devices embedded in amorphous dielectrics.
|
