|
|
Budyanskij, M. Y., Sejdman, L. A., Voronov, B. M., & Gubkina, T. O. (1992). Increase of reproducibility in production of superconducting thin films of niobium nitride. Sverkhprovodimost': Fizika, Khimiya, Tekhnika, 5(10), 1950–1954.
Abstract: Technique to control the composition of gas medium in the reactive magnetron discharge and the composition of the deposited films of niobium nitride using electrical parameters of discharge only, in particular, by δU = Up – Uar value at contant stabilized discharge current is described. Technique to select optimal condition for deposition of niobium nitride films when the films have composition meeting chemical formula, is suggested. Thin films of niobium nitride with up to 7 nm thickness and with rather high temperature of transition into superconducting state Tk > 10 K) and with low width of transition (δ < 0.6 K), are obtained. It is determined, that substrate material and dielectric sublayer do not affect. Tk value, while difference in coefficients of thermal expansion of substrate and of film affects δTk value.
|
|
|
|
Gershenzon, E. M., Orlova, S. L., Orlov, L. A., Ptitsina, N. G., & Rabinovich, R. I. (1976). Intervalley cyclotron-impurity resonance of electrons in n-Ge. JETP Lett., 24(3), 125–128.
|
|
|
|
Mel’nikov, A. P., Gurvich, Y. A., Shestakov, L. N., & Gershenzon, E. M. (2001). Magnetic field effects on the nonohmic impurity conduction of uncompensated crystalline silicon. Jetp Lett., 73(1), 44–47.
Abstract: The impurity conduction of a series of crystalline silicon samples with the concentration of major impurity N ≈ 3 × 1016 cm−3 and with a varied, but very small, compensation K was measured as a function of the electric field E in various magnetic fields H-σ(H, E). It was found that, at K < 10−3 and in moderate E, where these samples are characterized by a negative nonohmicity (dσ(0, E)/dE < 0), the ratio σ(H, E)/σ(0, E) > 1 (negative magnetoresistance). With increasing E, these inequalities are simultaneously reversed (positive nonohmicity and positive magnetoresistance). It is suggested that both negative and positive nonohmicities are due to electron transitions in electric fields from impurity ground states to states in the Mott-Hubbard gap.
|
|
|
|
Банная, В. Ф., Веселова, Л. И., & Гершензон, Е. М. (1989). Особенности температурной зависимости холловской подвижности в легированных и некомпенсированных полупроводниках. Физика и техника полупроводников, 23(2), 338–345.
Abstract: На примере легированного и слабо компенсированного Si⟨B⟩ проведены исследования особенностей температурной зависимости подвижности при различных механизмах рассеяния. Уточнен метод определения концентрации компенсирующей примеси по μI(T). Полученные результаты обсуждаются и для Ge.
|
|
|
|
Гершензон, Е. М., Литвак-Горская, Л. Б., Луговая, Г. Я., & Шапиро, Е. З. (1986). Об интерпретации отрицательного магнитосопротивления в случае проводимости по верхней зоне Хаббарда в n-Ge⟨Sb⟩. Физика и техника полупроводников, 20(1), 99–103.
Abstract: В рамках теории квантовых поправок к проводимости объяснено отрицательное магнитосопротивление в n-Ge с концентрацией доноров Nd≃2.8⋅1016÷1.1⋅1017см−3, наблюдаемое в диапазоне температур 4.2−10 K, когда основной вклад в проводимость дают электроны верхней зоны Хаббарда. Показано, что время релаксации фазы волновой функции τφ определяется временем электрон-фононного взаимодействия τeph.
|
|
|
|
Гершензон, Е. М., Семенов, И. Т., & Фогельсон, М. С. (1985). Спин-решеточная релаксация доноров фосфора в кремнии при одноосной деформации образца. Физика и техника полупроводников, 19(9), 1696–1698.
|
|
|
|
Гершензон, Е. М., Семенов, И. Т., & Фогельсон, М. С. (1984). О механизме динамического сужения линии ЭПР доноров фосфора в кремнии. Физика и техника полупроводников, 18(3), 421–425.
Abstract: Температурная зависимость ширины линии ЭПР доноров Р в Si исследована в интервале концентрации ND=2.5⋅1017−9⋅1017см−3 и температур T=1.7−45 K на образцах с различной степенью компенсации основной примеси. Результаты согласуются с моделью обменного сужения линии при учете температурной зависимости обменного интеграла и тем самым исключают предлагавшийся ранее механизм сужения линии вследствие прыжкового движения электронов по примесным центрам.
|
|
|
|
Банная, В. Ф., Веселова, Л. И., & Гершензон, Е. М. (1983). Об одном способе определения концентрации глубоких примесей в германии. Физика и техника полупроводников, 17(10), 1896–1898.
|
|
|
|
Гершензон, Е. М., Литвак-Горская, Л. Б., & Рабинович, Р. И. (1983). Отрицательное магнитосопротивление в случае проводимости по верхней зоне Хаббарда. Физика и техника полупроводников, 17(10), 1873–1876.
|
|
|
|
Гершензон, Е. М., Мельников, А. П., Рабинович, Р. И., & Смирнова, В. Б. (1983). О возможности создания инверсной функции распределения свободных носителей в полупроводниках при захвате на мелкие нейтральные примеси. Физика и техника полупроводников, 17(3), 499–501.
|
|
